Linde　半導体/FPD製造装置向け高耐食セラミックコーティング

Linde　AMTプラズマ溶射法

1957年、私たちは世界に先駆けてプラズマ溶射装置の基本型を開発しました。以後、不断の技術改良

を加え、現在は世界屈指の高性能を実現しています。熱的ピンチ効果に従い、ノントランスファー（非

移相型）アークとサーマルピンチ効果で発生する高速（350m/sec）・高温（16,700℃）のプラズマ流

を利用したコーティング手法は最たる例といえるでしょう。

微量かつ定量供給された粉末コーティング材は、高温プラズマ流により完全溶融し、ほぼ音速と同じ

速さで素材に衝突します。これにより今までにない硬さで、より強く、より高密度（低気孔率）の

緻密なコーティング皮膜を形成できます。