IC(集積回路)、メモリ(半導体記憶装置)などの微細な半導体回路の形成に使用されるガスをラインナップしております。 ※表示に無いガスは上部の『お問い合わせ』をご利用ください。
SiH4 モノシラン
PH3 ホスフィン
B2H6 ジボラン
AsH3 アルシン
SiH2Cl2 ジクロロシラン
Si2H6 ジシラン
SiCl4 四塩化ケイ素
BCl3 三塩化ホウ素
NF3 三フッ化窒素
WF6 六フッ化タングステン