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GC−MS(ガスクロマトグラフ質量分析計)
【測定ガス】
■N2・O2・Ar・H2・He中の不純物濃度測定
測定対象:N2/O2/CH4/CO/CO2
【用途】
■精製装置出口の不純物分析
■末端ユースポイントの不純物分析
■施工配管完了後の不純物分析
TOA(黄燐発光式微量酸素分析計)
【測定ガス】
■N2・Ar・H2・He中のO2濃度測定
【用途】
■精製装置出口の不純物分析
■末端ユースポイントの不純物分析
■施工配管完了後の不純物分析
サンプリング容器・加熱真空装置
【サンプリング容器】
■ガスサンプリング分析用容器
仕様 : SUS316L 100A EP (10L)
【 加熱真空引装置 】
■サンプリング分析用容器の不純物処理
サンプリング容器を加熱パージ及び真空引を繰返す事により、サンプリング容器内の
不純物定価を図り、サンプリング分析の信頼性向上に努めています。
API−MS(大気圧イオン化質量分析計)
【測定ガス】
■N2・Ar中の不純物
測定対象:O2/CH4/CO/CO2/H2O
【用途】
■ガス配管部材の解析評価
■ガス供給設備の解析評価
■ユースポイントでの解析評価
■施工配管での検収分析
HYCOSMO(低温光学式露点計)
【測定ガス】
■N2・O2・Ar・H2・He中のH2O分析
【用途】
■ガス配管部材等の解析評価
■施工配管完了後の漏洩検査
Heディテクター
【検査方法】
■Heリーク検査 (1×10-11pa・m2/sec)
【用途】
■ガス配管部材等の解析評価
■施工配管完了後の漏洩検査
パーティクルカウンター
【検査方法】
■パーティクル検査 (0.1μm/cf)
【用途】
■ガス配管部材等の解析評価
■施工配管完了後ののパーティクル測定
FT−IR :フ−リエ変換式赤外分光分析計
【測定ガス】
■特材ガス、PFCガス
【用途】
■プロセス装置の排気ガス濃度測定
■排ガス除害装置の評価(分解効率)
■特材ガス中の不純物測定
SEM:走査型電子顕微鏡 EDS:エネルギー分散型X線分析計
【測定ガス】
■表面状態の解析
■表面の組成(元素)分析
【用途】
■ガス供給部材のトラブル解析評価
■微細加工製品の観察
デジタルマイクロスコープ
【測定ガス】
■表面状態の解析
【用途】
■ガス供給部材のトラブル解析評価
■微細加工製品の観察