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受託プラズマ溶射
半導体製造装置用溶射処理
高機能溶射の特長
高温耐食性・耐衝撃性に優れる
半導体処理用専用ライン採用
集塵によるコンタミ管理
低温処理で母材を選ばない
クリーンルーム中の処理が可能
気孔率
硬度
溶射状況解析装置採用
密着強度
最新の CCD カメラシステムにて溶射の重要なパラメーターを瞬時に測定し記録します。 (速度、温度、密度、位置、角度、幅)溶射記録?溶射の解析?パラメーターの最適化
溶射の連続監視?研究開発?品質管理、コストセーブ
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