IC(集積回路)、メモリ(半導体記憶装置)などの微細な半導体回路の形成に使用されるガスをラインナップしております。 ※表示に無いガスは上部の『お問い合わせ』をご利用ください。
CHF3 三フッ化メタン
ClF3 三フッ化塩素
SiF4 四フッ化ケイ素
N2O 亜酸化窒素
HF フッ化水素
TEOS テトラエトキシシラン
TEB トリエトキシボロン
TMB トリメトキシボロン
TMS トリメチルシラン
その他半導体用材料ガス