IC(集積回路)、メモリ(半導体記憶装置)などの微細な半導体回路の形成に使用されるガスをラインナップしております。 ※表示に無いガスは上部の『お問い合わせ』をご利用ください。
HBr 臭化水素
Cl2 塩素
BF3 三フッ化ホウ素
C2F6 六フッ化エタン
C3F8 八フッ化プロパン
C4F6 ヘキサフルオロ-1、3-ブタジエン
C4F8 パーフルオロシクロブタン
C5F8 オクタフルオロシクロペンテン
CH2F2 二フッ化メタン
CH3F フルオロメタン